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當前位置：首頁資訊光學鍍膜屏使用注意事項

光學鍍膜屏使用注意事項

導讀光學鍍膜對溫度要求不高，可以在室溫下進行。傳統的光學鍍膜涂層工藝需要提高基材溫度（通常約為300°C）；而更先進的技術，例如離子輔助沉積（IAD），則可以在室溫下進行。IAD工藝不僅可以生產比常規涂層工藝具有更好物理性能的薄膜，而且還可以應用于塑料制成的基材。

光學鍍膜對溫度要求不高，可以在室溫下進行。傳統的光學鍍膜涂層工藝需要提高基材溫度（通常約為300°C）；而更先進的技術，例如離子輔助沉積（IAD），則可以在室溫下進行。IAD工藝不僅可以生產比常規涂層工藝具有更好物理性能的薄膜，而且還可以應用于塑料制成的基材。

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