國內首家擁有euv光刻膠單體的企業
國內首家擁有euv光刻膠單體的企業
二、安集科技公司掌握光刻膠去除劑的核心技術,包括光阻搬運和清洗過程中的金屬防腐蝕技術,以及光刻膠殘留物的去除技術。三、華懋科技是國內領先的中高端光刻膠單體生產企業,也是國際上EUV光刻膠單體的發明者和生產者。四、南大光電公司自主研發的ArF光刻膠產品已成功通過客戶認證,成為首款通過驗證的國產ArF光刻膠。公司還承擔了193nm光刻膠材料的研發和產業化項目,該材料是集成電路芯片制造的關鍵核心材料之一。南大光電與國內外多家集成電路和LED領域的優秀企業建立了良好合作關系。五、賽微電子公司為全球光刻機領先廠商提供透鏡系統MEMS部件的工藝開發和晶圓制造服務。公司以半導體業務為核心,主營業務包括MEMS芯片的工藝開發、晶圓制造,以及GaN外延材料的研發、生產和芯片設計。
導讀二、安集科技公司掌握光刻膠去除劑的核心技術,包括光阻搬運和清洗過程中的金屬防腐蝕技術,以及光刻膠殘留物的去除技術。三、華懋科技是國內領先的中高端光刻膠單體生產企業,也是國際上EUV光刻膠單體的發明者和生產者。四、南大光電公司自主研發的ArF光刻膠產品已成功通過客戶認證,成為首款通過驗證的國產ArF光刻膠。公司還承擔了193nm光刻膠材料的研發和產業化項目,該材料是集成電路芯片制造的關鍵核心材料之一。南大光電與國內外多家集成電路和LED領域的優秀企業建立了良好合作關系。五、賽微電子公司為全球光刻機領先廠商提供透鏡系統MEMS部件的工藝開發和晶圓制造服務。公司以半導體業務為核心,主營業務包括MEMS芯片的工藝開發、晶圓制造,以及GaN外延材料的研發、生產和芯片設計。
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一、晶方科技是荷蘭光刻機制造商ASML的重要客戶之一,該公司專注于半導體封裝技術的開發和創新,為客戶提供了可靠、小型化、高性能和高性價比的服務。晶方科技與荷蘭Anteryon公司的并購使其成為技術創新和優質量產服務的行業領導者。二、安集科技公司掌握光刻膠去除劑的核心技術,包括光阻搬運和清洗過程中的金屬防腐蝕技術,以及光刻膠殘留物的去除技術。三、華懋科技是國內領先的中高端光刻膠單體生產企業,也是國際上EUV光刻膠單體的發明者和生產者。四、南大光電公司自主研發的ArF光刻膠產品已成功通過客戶認證,成為首款通過驗證的國產ArF光刻膠。公司還承擔了193nm光刻膠材料的研發和產業化項目,該材料是集成電路芯片制造的關鍵核心材料之一。南大光電與國內外多家集成電路和LED領域的優秀企業建立了良好合作關系。五、賽微電子公司為全球光刻機領先廠商提供透鏡系統MEMS部件的工藝開發和晶圓制造服務。公司以半導體業務為核心,主營業務包括MEMS芯片的工藝開發、晶圓制造,以及GaN外延材料的研發、生產和芯片設計。六、格林達公司產品主要用于LCD顯示面板制造過程中的基板顆粒和有機物清洗、光刻膠顯影和剝離、金屬電極蝕刻等環節。公司是一家專注于定制濕電子化學品及其配套服務與解決方案的高新技術企業,其客戶群包括平板顯示、光伏面板和芯片制作等領域。
國內首家擁有euv光刻膠單體的企業
二、安集科技公司掌握光刻膠去除劑的核心技術,包括光阻搬運和清洗過程中的金屬防腐蝕技術,以及光刻膠殘留物的去除技術。三、華懋科技是國內領先的中高端光刻膠單體生產企業,也是國際上EUV光刻膠單體的發明者和生產者。四、南大光電公司自主研發的ArF光刻膠產品已成功通過客戶認證,成為首款通過驗證的國產ArF光刻膠。公司還承擔了193nm光刻膠材料的研發和產業化項目,該材料是集成電路芯片制造的關鍵核心材料之一。南大光電與國內外多家集成電路和LED領域的優秀企業建立了良好合作關系。五、賽微電子公司為全球光刻機領先廠商提供透鏡系統MEMS部件的工藝開發和晶圓制造服務。公司以半導體業務為核心,主營業務包括MEMS芯片的工藝開發、晶圓制造,以及GaN外延材料的研發、生產和芯片設計。
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