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當前位置：首頁資訊半導體再回流工藝中氮氣跟氧氣的作用

半導體再回流工藝中氮氣跟氧氣的作用

導讀保護焊接區域不受氧化影響。氮氣的主要作用是保護焊接區域不受氧化影響，在焊接過程中，加熱會使得焊點處溫度升高，而高溫下的氧氣容易與金屬反應，導致氧化、污染等問題，因此，半導體回流焊接過程中通入少量的氮氣可以有效地防止氧化反應的發生，從而保證焊點質量。半導體回流焊接工藝是一種常用的電子元器件表面焊接方法。

保護焊接區域不受氧化影響。氮氣的主要作用是保護焊接區域不受氧化影響，在焊接過程中，加熱會使得焊點處溫度升高，而高溫下的氧氣容易與金屬反應，導致氧化、污染等問題，因此，半導體回流焊接過程中通入少量的氮氣可以有效地防止氧化反應的發生，從而保證焊點質量。半導體回流焊接工藝是一種常用的電子元器件表面焊接方法。

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