光學(xué)曝光和電子束曝光的區(qū)別
光學(xué)曝光和電子束曝光的區(qū)別
1、原理：光學(xué)曝光是基于激光的光衍射現(xiàn)象，通過改變透鏡上的反射膜或涂層來實(shí)現(xiàn)對(duì)掩模上圖案的縮小與放大，從而實(shí)現(xiàn)微納尺寸的加工，而電子束曝光則是一種用于數(shù)學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，其原理是通過電子束的加速和掃描來傳輸和切割影像。2、適用范圍：光學(xué)曝光主要用于加工尺寸在微納級(jí)別的產(chǎn)品，而電子束曝光則適用于在電子束感光膠上制備出納米級(jí)的結(jié)構(gòu)。
導(dǎo)讀1、原理：光學(xué)曝光是基于激光的光衍射現(xiàn)象，通過改變透鏡上的反射膜或涂層來實(shí)現(xiàn)對(duì)掩模上圖案的縮小與放大，從而實(shí)現(xiàn)微納尺寸的加工，而電子束曝光則是一種用于數(shù)學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，其原理是通過電子束的加速和掃描來傳輸和切割影像。2、適用范圍：光學(xué)曝光主要用于加工尺寸在微納級(jí)別的產(chǎn)品，而電子束曝光則適用于在電子束感光膠上制備出納米級(jí)的結(jié)構(gòu)。
原理、適用范圍。1、原理：光學(xué)曝光是基于激光的光衍射現(xiàn)象，通過改變透鏡上的反射膜或涂層來實(shí)現(xiàn)對(duì)掩模上圖案的縮小與放大，從而實(shí)現(xiàn)微納尺寸的加工，而電子束曝光則是一種用于數(shù)學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，其原理是通過電子束的加速和掃描來傳輸和切割影像。2、適用范圍：光學(xué)曝光主要用于加工尺寸在微納級(jí)別的產(chǎn)品，而電子束曝光則適用于在電子束感光膠上制備出納米級(jí)的結(jié)構(gòu)。
光學(xué)曝光和電子束曝光的區(qū)別
1、原理：光學(xué)曝光是基于激光的光衍射現(xiàn)象，通過改變透鏡上的反射膜或涂層來實(shí)現(xiàn)對(duì)掩模上圖案的縮小與放大，從而實(shí)現(xiàn)微納尺寸的加工，而電子束曝光則是一種用于數(shù)學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，其原理是通過電子束的加速和掃描來傳輸和切割影像。2、適用范圍：光學(xué)曝光主要用于加工尺寸在微納級(jí)別的產(chǎn)品，而電子束曝光則適用于在電子束感光膠上制備出納米級(jí)的結(jié)構(gòu)。
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