MOS場效應管的分類
MOS場效應管的分類
2.以N溝道MOSFET為例,它是在P型硅襯底上形成兩個高摻雜濃度的N+源擴散區(qū)和N+漏擴散區(qū),分別連接源極S和漏極D。源極與襯底內(nèi)部相連,保持等電位。在外部電場的作用下,從P型襯底向N型溝道移動。3.當漏極接正電源,源極接負電源且VGS=0時,溝道電流(即漏極電流)ID=0。隨著VGS的增加,在源極和漏極之間形成帶負電的少數(shù)載流子,形成導電溝道。當VGS超過開啟電壓VTN(通常約為+2V)時,N溝道MOSFET開始導電,漏極電流ID開始流動。4.國內(nèi)N溝道MOSFET的典型產(chǎn)品包括3DO1、3DO2、3DO4(單柵管)和4DO1(雙柵管)。
導讀2.以N溝道MOSFET為例,它是在P型硅襯底上形成兩個高摻雜濃度的N+源擴散區(qū)和N+漏擴散區(qū),分別連接源極S和漏極D。源極與襯底內(nèi)部相連,保持等電位。在外部電場的作用下,從P型襯底向N型溝道移動。3.當漏極接正電源,源極接負電源且VGS=0時,溝道電流(即漏極電流)ID=0。隨著VGS的增加,在源極和漏極之間形成帶負電的少數(shù)載流子,形成導電溝道。當VGS超過開啟電壓VTN(通常約為+2V)時,N溝道MOSFET開始導電,漏極電流ID開始流動。4.國內(nèi)N溝道MOSFET的典型產(chǎn)品包括3DO1、3DO2、3DO4(單柵管)和4DO1(雙柵管)。
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1. MOSFET根據(jù)導電方式的不同,可以分為增強型和耗盡型兩種。增強型MOSFET在VGS=0時處于截止狀態(tài),而當施加正確的VGS時,多數(shù)載流子被吸引到柵極附近,形成導電溝道。耗盡型MOSFET在VGS=0時 already 存在溝道,而正確的VGS會增加溝道中的載流子,從而耗盡溝道中的載流子,導致管子截止。2. 以N溝道MOSFET為例,它是在P型硅襯底上形成兩個高摻雜濃度的N+源擴散區(qū)和N+漏擴散區(qū),分別連接源極S和漏極D。源極與襯底內(nèi)部相連,保持等電位。在外部電場的作用下,從P型襯底向N型溝道移動。3. 當漏極接正電源,源極接負電源且VGS=0時,溝道電流(即漏極電流)ID=0。隨著VGS的增加,在源極和漏極之間形成帶負電的少數(shù)載流子,形成導電溝道。當VGS超過開啟電壓VTN(通常約為+2V)時,N溝道MOSFET開始導電,漏極電流ID開始流動。4. 國內(nèi)N溝道MOSFET的典型產(chǎn)品包括3DO1、3DO2、3DO4(單柵管)和4DO1(雙柵管)。5. MOSFET對電磁干擾和靜電非常敏感,因為其輸入電阻高且柵-源極間電容小。即便是少量的電荷也可能在極間電容上積累高電壓,損壞器件。為此,出廠時器件的引腳會絞合或封裝在金屬箔中,以保持柵極和源極等電位,防止靜電積累。在不使用時,所有引腳應短接。在測量時需特別小心,并采取防靜電措施。
MOS場效應管的分類
2.以N溝道MOSFET為例,它是在P型硅襯底上形成兩個高摻雜濃度的N+源擴散區(qū)和N+漏擴散區(qū),分別連接源極S和漏極D。源極與襯底內(nèi)部相連,保持等電位。在外部電場的作用下,從P型襯底向N型溝道移動。3.當漏極接正電源,源極接負電源且VGS=0時,溝道電流(即漏極電流)ID=0。隨著VGS的增加,在源極和漏極之間形成帶負電的少數(shù)載流子,形成導電溝道。當VGS超過開啟電壓VTN(通常約為+2V)時,N溝道MOSFET開始導電,漏極電流ID開始流動。4.國內(nèi)N溝道MOSFET的典型產(chǎn)品包括3DO1、3DO2、3DO4(單柵管)和4DO1(雙柵管)。
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