七種『機械拋光』
七種『機械拋光』
二、磨粒流拋光:專門用于內孔、微孔及復雜形狀的拋光,徹底去除毛刺,對曲面和邊角進行拋光,同時提供清潔和潤滑,避免過熱。三、擠壓拋光:在壓力與拋光劑的協同作用下,創造出高精度的平面和曲面拋光效果。四、剪切增稠拋光(STP):適用于光學應用中的石英玻璃拋光,如膠體二氧化硅和氧化鈰,實現高效精密加工。五、動態摩擦拋光(DFP):通過高速磨粒摩擦工件表面,實現納米級的熱化學拋光,提升拋光效率和拋光質量。六、磁流體拋光(MFP):利用磁性顆粒在磁場中的有序運動,實現對各種材料如金屬、陶瓷的高效拋光,適用于微電子和光學等領域。七、磨料顆粒渦流拋光(APECP):為金屬表面提供幾微米或1絲的深度研磨,廣泛應用于機械、航空和化工領域。
導讀二、磨粒流拋光:專門用于內孔、微孔及復雜形狀的拋光,徹底去除毛刺,對曲面和邊角進行拋光,同時提供清潔和潤滑,避免過熱。三、擠壓拋光:在壓力與拋光劑的協同作用下,創造出高精度的平面和曲面拋光效果。四、剪切增稠拋光(STP):適用于光學應用中的石英玻璃拋光,如膠體二氧化硅和氧化鈰,實現高效精密加工。五、動態摩擦拋光(DFP):通過高速磨粒摩擦工件表面,實現納米級的熱化學拋光,提升拋光效率和拋光質量。六、磁流體拋光(MFP):利用磁性顆粒在磁場中的有序運動,實現對各種材料如金屬、陶瓷的高效拋光,適用于微電子和光學等領域。七、磨料顆粒渦流拋光(APECP):為金屬表面提供幾微米或1絲的深度研磨,廣泛應用于機械、航空和化工領域。
一、噴砂處理:快速去除污垢、氧化層和瑕疵,提升表面清潔度和粗糙度,增強涂層附著力和延長涂層壽命。二、磨粒流拋光:專門用于內孔、微孔及復雜形狀的拋光,徹底去除毛刺,對曲面和邊角進行拋光,同時提供清潔和潤滑,避免過熱。三、擠壓拋光:在壓力與拋光劑的協同作用下,創造出高精度的平面和曲面拋光效果。四、剪切增稠拋光(STP):適用于光學應用中的石英玻璃拋光,如膠體二氧化硅和氧化鈰,實現高效精密加工。五、動態摩擦拋光(DFP):通過高速磨粒摩擦工件表面,實現納米級的熱化學拋光,提升拋光效率和拋光質量。六、磁流體拋光(MFP):利用磁性顆粒在磁場中的有序運動,實現對各種材料如金屬、陶瓷的高效拋光,適用于微電子和光學等領域。七、磨料顆粒渦流拋光(APECP):為金屬表面提供幾微米或1絲的深度研磨,廣泛應用于機械、航空和化工領域。這些機械拋光技術各具特色,共同為產品表面增添了深度和質感,使得產品在視覺和觸感上都達到了極致的完美。
七種『機械拋光』
二、磨粒流拋光:專門用于內孔、微孔及復雜形狀的拋光,徹底去除毛刺,對曲面和邊角進行拋光,同時提供清潔和潤滑,避免過熱。三、擠壓拋光:在壓力與拋光劑的協同作用下,創造出高精度的平面和曲面拋光效果。四、剪切增稠拋光(STP):適用于光學應用中的石英玻璃拋光,如膠體二氧化硅和氧化鈰,實現高效精密加工。五、動態摩擦拋光(DFP):通過高速磨粒摩擦工件表面,實現納米級的熱化學拋光,提升拋光效率和拋光質量。六、磁流體拋光(MFP):利用磁性顆粒在磁場中的有序運動,實現對各種材料如金屬、陶瓷的高效拋光,適用于微電子和光學等領域。七、磨料顆粒渦流拋光(APECP):為金屬表面提供幾微米或1絲的深度研磨,廣泛應用于機械、航空和化工領域。
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